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一粒米上刻10亿字，国产闪存用上国产半导体装备

来源：本站原创　浏览：159次　时间：2022-02-23
　　紫光旗下的长江存储在2019年9月份正式量产了国内首个64层堆栈的3D闪存，容量256Gb，TLC芯片，2020年长江存储还会进一步提升产能，年底将达到每月6万片晶圆的水平，是初期产能的10倍。 　　扩大产能就意味着要购买更多的半导体生产设备，其中光刻机还只能依赖进口，但是其他设备有望加大国产采购力度。1月2日，上海中微半导体宣布中标了9台蚀刻机，而2019全年他们中标的也不过13台。 　　蚀刻机是芯片制造中的一种设备，与光刻机、MOCVD并称为三大关键性半导体生产设备，它主要用来在芯片上进行微观雕刻，每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到上万分之一，精度控制要求非常高。 　　比如，16nm工艺的微观逻辑器件有60多层微观结构，要经过1000多个工艺步骤，攻克上万个技术细节才能加工出来。 　　中微半导体CEO尹志尧形容说：“在米粒上刻字的微雕技艺上，一般能刻200个字已经是极限，而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于可以在米粒上刻10亿个字的水平。” 　　目前中微半导体的28nm、16nm蚀刻机早已经要进入台积电的供应链，5nm蚀刻机也研发成功了，正在台积电的5nm产线中测试，这是国产半导体设备为数不多的突破性进展之一。

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